2021年10月19日(火) 日本経済新聞 16面 半導体、ハンコ製法で逆襲

先端半導体の回路を描くために不可欠な「露光技術」で日本企業に逆転の目が出てきた。キオクシア、キヤノン、大日本印刷はハンコを押すように回路を形成する「ナノインプリント」を2025年にも実用化する。一部の工程が不要になり、設備投資を数百億円、対象工程の製造コストを最大4割減らせる見込み。露光分野でシェアを奪われてきた日本勢が再び存在感を高められそうだと日本経済新聞が報じています。

https://www.nikkei.com/article/DGKKZO76749370Y1A011C2TEB000/

2020年12月8日(火) 日本経済新聞 15面 インテル「◯◯◯」で逆襲 微細化競争、限界見据え

半導体の開発競争でチップを積み重ねる「◯◯◯」の重みが増してきた。米インテルは6月にパソコン用CPU(中央演算処理装置)で新製品を投入し、省エネ性能を高めた。台湾積体電路製造(TSMC)は米グーグルと協業を進める。◯◯◯関連の市場規模は2024年に1.2兆円を超え、装置や部材メーカーを巻き込んだ競争が激化すると日本経済新聞が報じています。

https://www.nikkei.com/article/DGKKZO67095520X01C20A2TJ2000/